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![中研院奈米核心設施光罩製作畫圖規則]()
www.phys.sinica.edu.tw1 中研院奈米核心設施光罩製作畫圖規則 AutoCAD適用(2014.04 version) 原作者: 巫英賓 (2007.10 1st version) 增修：李固斌(kupin@phys.sinica.edu.tw) (本中心保留隨時修改本文件之權利) 前言 雷射曝光機是以雷射為光源去曝光光罩底片，藉以製作光罩。瀏覽：838 -
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rnai.genmed.sinica.edu.tw服務項目訂購(核心服務項目&收費準則查詢) 會員登入: 帳號 密碼 申請會員 C6-1 C6-2 C6-3 C6-4 C6-5 C6-6 C6-7 C6-8 C6-9 C6-10 C6-11 C6-12 C6-13 shRNA 質體細菌株分讓（點選可展開） [產品簡介] [使用須知] [技術支援] shRNA 關鍵字查詢瀏覽：400
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