search:光阻塗佈原理相關網頁資料

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        半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等),而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水:NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水:洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...
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      • www.me.cycu.edu.tw
        曝光原理 曝光製程 曝光光源系統 手動曝光機 自動曝光機 ... 高啟清博士 Charles Kao, Ph.D Tel: 02-2601-0700 Mobile: 0939-268-725 cckao@csun.com.tw V2.1 2007/4/10 課程綱要 多層板曝光製程 內層曝光顯影蝕刻 內層壓膜曝光設備 外層曝光電鍍蝕刻 外層曝光 ...
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    日期:2024-12-14
    精密塗佈技術介紹 前言 所謂成捲式精密塗佈(Roll-to-Roll Precision Coating)整合性技術,可應用產品領域有IC、 PCB、光電、民生、醫療等多種產業,以3M 為例,3M 公司由塗佈而衍生之產品就有數萬種之多,從一般 產品(如文具膠帶)到醫療膠帶(美容 ......
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    日期:2024-12-15
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    日期:2024-12-13
    乙揚精研:設計生產客戶需求的專業塗佈機、治具、檢具及多樣材質的機械零件加工製作。-English- -繁體中文- -日本語- . SPC-101 (510mm*550mm*550mm) 產品特色: ※ 連續可變的速度範圍 0-8,000 ......
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    日期:2024-12-18
    Teclin Co., Ltd. 穎強科技股份有限公司 ... 廠牌:SVS MSX1000 是針對光電、半導體製程所設計的模組化塗佈系統,適合於2”~6”的晶片,並可應用在ASICS、LED、OLED、MEMS 等製程,並可以因應不同光阻塗佈及顯影製程提供不同設計,在馬達轉速及加速,烤 ......
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    日期:2024-12-15
    多層板製程; 曝光製程; 光阻曝光原理; 曝光光源系統; 曝光量測 .... 塗佈→預烤→曝光→顯像→後烘烤→UV硬化 約0.8 mil厚,能量400~600 mj/cm2; 曝光時需抽真空使 ......
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    日期:2024-12-17
    2007年4月8日 - 最近學到旋轉塗佈,網路上查了又查都搞不清楚在講些甚麼,請各位大大幫幫我~~~ 感恩....
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    日期:2024-12-15
    2008年7月10日 - 本研究以TFT-LCD 業未混雜到其他溶劑,且經過旋轉塗佈製程後,被甩離玻. 璃基東之剩餘 ......
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    日期:2024-12-14
    一、目的:熟悉微影製程並了解各個步驟之原理及影響。 二、器材及藥品:旋轉塗佈機 、曝光機、加熱板(Hot ......