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![旋轉式光阻塗佈機/ 噴霧式光阻塗佈機 - SUSS MicroTec]()
www.suss.comSUSS MicroTec塗佈機是具備精簡、易於使用之光阻塗佈設備，可生產從經濟實惠的小產量實驗室設備，到最大300mm之高階生產系統的完整產品線，因此可在相同的 ...瀏覽：805 -
![3-1 - 國立中央大學]()
thesis.lib.ncu.edu.tw1000 cp 預塗表面矽油的用量約只要未塗佈的裸露晶圓的一半，而使. 用較低黏滯性 ..... 本實驗主要目的在探討預先塗佈一層流體對旋轉塗佈的影響，所. 以預先塗佈的 ...瀏覽：450
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日期：2024-07-10
光阻劑. • 光敏感物質. • 暫時塗佈在晶圓上表面. • 經由曝光製程將設計圖案轉移其上. • 非常類似於塗佈在 ... 在預烤製程中通常以臨場方式沈積. • 在光阻塗佈前以冷卻 ......
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日期：2024-07-08
微影的製程目的在於將光罩上的積體電路結構圖像，能夠轉移塗滿至光阻薄膜的晶 ... 其在晶圓上塗佈光阻方式利用旋轉塗佈為由在於，光阻材料多為液態，利用旋轉塗 ......
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日期：2024-07-13
濃縮及調配再生處理之光阻劑廢液，仍然能通過塗佈膜厚15000 ± 500 Å、均勻度. < 2.5%及含水率< ... 關鍵字：光阻劑、重複回收、冷風濃縮設備、塗佈膜厚預測方程式 ...... 手：(1)減少光罩製程次數；(2)更新塗佈設備光阻塗佈方式；(3)使用再生光阻劑；....
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日期：2024-07-10
本研究亦使用量產上的設備(如:光學薄膜測厚儀，光阻旋轉塗佈. 機，光學歩近式曝光機， ... 本研究透過一系列之評估實驗：Spin Coater 轉速、光阻塗佈均一. 性、Swing ......
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日期：2024-07-11
微影製程包括三個主要步驟：光阻塗佈、曝光和顯影。 ... Bake）、塗底（Priming）和光阻旋轉塗佈（Spin Coating）、軟烤（Soft Bake）、對準和曝光、顯影（Development）、 ......
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日期：2024-07-13
定義破片光阻旋轉塗佈機操作規範，以確保操作品質。 二、範圍：. 適用於破片光阻旋轉塗佈機。 三、權責：. 1. 組織權責：工程師負責制定及修改規範。 2. 執行人員資格： ......
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日期：2024-07-10
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