search:半導體光罩相關網頁資料

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日期:2024-07-15
2005年3月23日 ... 如圖一所示,半導體廠首先需將設計好的圖形製作成光罩(photo ... 圖一:為標準光微 影製程,曝光源通過光罩、透鏡,最後將光罩圖形成像於晶圓上。...
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日期:2024-07-15
目前已採用OPC及PSM技術大量生產0.13、0.11微米光罩,並與客戶一起推動0.09 微米及NGL製程光罩,展現台灣光罩在IC ......
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日期:2024-07-10
3) 公司目標為建立量產high-end IC 光罩能力,提昇台灣IC工業微影製程之技術層次, 並成為所有IC公司虛擬之光罩製作 ......
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日期:2024-07-14
Brooks M2 光罩換盒設備是一款光罩盒交換和光罩檢查的系統。 每一種特定 I/O 介面, 提供光罩更換傳送盒至適用所有掃描機/步進機的傳送盒,例如 Canon、Nikon、ASML、Toppan、Hoya、DMS 光罩盒等)。...
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日期:2024-07-16
光罩(英語:Reticle, Mask):在製作積體電路的過程中,利用光蝕刻技術,在半導體上 形成圖型,為將圖型複製於晶圓上,必須 ......
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日期:2024-07-13
光罩生活– Digital技術之核心-光罩. 光罩係將電腦所設計之半導體迴路輸寫於半導體 薄片(wafer)之前最先被呈現之半導體 ......
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日期:2024-07-14
光罩是使用在半導體工廠的製造過程中, 半導體或晶圓製造過程是由數百道至上千道 的製程所構成, 重複著[微影],[蝕刻],[薄膜] ......
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日期:2024-07-11
我們可從國際半導體技術藍圖(ITRS)的快速發展迫使光罩製造商增加資金與研發 費用(R&D)的支出,但卻無法獲得相對 ......