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  半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 超厚光阻特性探討晶圓級封裝之多頻光譜光度測定法 - Semicondutor Magazine
  
  #p#John C. Lam 因為缺陷與後來的重工(rework)相對應的提高產生成本，精準光阻層的特性是使良率最佳化的關鍵因素。現在製造業者大多在profilometry與cross-sectional method兩種接觸方法(contact method)中選擇其中一種來使用，其方法就像掃瞄式電子顯微鏡 ...
  
  2024-07-07
  
  瀏覽：742
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  奈米通訊。第五卷第三期 30.微影製程之數學模式(I)
  
  其中I表光強度；αi為光阻第i個成分之吸收係數；mi表示光阻第i個成分之濃度。而z為如圖一所示的座標系，由空氣／光阻介面為原點；t為時間變數，因此，由上式可得知I與mi的分佈與光阻的深度有關係，而且隨著時間增加（曝光能量增加）而有所變化。
  
  2024-07-14
  
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3.21 Reflection and absorption coefficients for transmission lines ...

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