search:感應耦合電漿離子蝕刻系統相關網頁資料

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日期:2024-08-07
感應耦合式電漿蝕刻技術. 對氮化鎵的蝕刻研究. Study of Inductively Coupled Plasma Etching on GaN. 指導教授:周武清博士. 研究生:林雅玲. 中華民國九十年六 月 ......
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日期:2024-08-12
NCKU, 成功大學-儀器設備中心 ... [收件公告] 凡欲於今(103)年度申購單價新臺幣500萬元以上經常性作業用儀器者,敬請於103年2月28日前,提交申請表單。...
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日期:2024-08-13
由於半導體奈米線具有特殊之光電特性,可用來探討量子力學對材料性質的影響,同時在積體電路和光學的應用又極具潛力,因此各種不同合成方法不斷地被提出,並引起廣泛的重視。本實驗結合乾式蝕刻及氣-固-液相(vapor-liquid-solid, VLS)成長機制來製作矽 ......
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日期:2024-08-13
蝕刻技術 (Etching Technology) 1. 前言 蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。 蝕刻技術可以分為『濕蝕刻』(wet etching)及『乾蝕刻』(dry etching)兩類。在濕蝕刻中是使用化學溶液,經由化學反應以達到蝕刻的目的,而乾 ......
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日期:2024-08-07
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日期:2024-08-11
圖2-5 電子迴旋共振式離子反應電漿蝕刻機結構示意圖………....20 .... 電漿技術. 並 討論本論文所使用之蝕刻技術之優缺點。...
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日期:2024-08-08
台灣法律網,劉孟錦律師主持,最專業的法律顧問網站,提供各種法律資訊及訴訟書狀、契約書、和解書、協議書、存證信函、離婚、遺囑等範例,為您解決各種律師諮詢與法律 ......
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日期:2024-08-09
一個平行板式和感應耦合電漿體式所組合而成的RIE也是可以實現的。這一系統中, ICP用來產生高濃度電漿體來加快蝕刻 ......