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日期:2024-11-07
1. LV-SEM主體:在一般及低真空下 ( 1-270 pa ) 對表面及立體結構之觀察及照相 2. 鍍金 ( 碳 ) 機:在樣品表面鍍導電金膜碳膜 3. EDS 系統:分析樣品之元素 ( B-U ) 4. EBSD 系統:決定樣品中小區域晶體結構 5. 冷凍樣品座:快速冷凍樣品及 in-situ 鍍膜用...
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日期:2024-11-07
單眼原廠配件 Canon原廠單眼配件 Nikon原廠單眼配件 SONY原廠單眼配件 Olympus原廠單眼配件 PENTAX原廠單眼配件 其他原廠配件...
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日期:2024-11-13
在無線使用趨勢愈來愈普遍的時代,MS840P經濟實惠的價格也逐步取代有線的條碼
掃瞄器,除了減少Cable帶來的空間障礙 ......
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日期:2024-11-08
HoneyWell 4980 Stationary Barcode Scanner 固定式 條碼掃描器是一款 二維影像固定式 條碼掃描器 ......
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日期:2024-11-13
半自動曝光機,適合工業界量產使用 A)單面對準曝光系統 實用操作簡易的單面曝光機 好用的對準台,光罩與晶圓在完成對準後真空接觸不偏侈 操作簡易功能齊全的操作面板 曝光製程中所需的固定動作以PLC程式控制,一個按鍵可以連續執行數個動作 ......
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日期:2024-11-06
3>Toppan Photomasks的技術長Franklin Kalk在半導體科技雜誌的專訪中表示,長久以來,使用於傳統二元式光罩上用來遮光的鉻材料可能會被取代。 Kalk表示在製作32奈米製程光罩中的一項重要關鍵就是選用OMOG(opaque-molybdenum-over-glass,玻璃上的不透明 ......
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日期:2024-11-09
(3)HEBS (High Energy Beam Sensitive)和LDW(Laser Direct Write)玻璃灰階光 罩 HEBS 是近年來針對灰階光罩製程所發展的新材料。在電子束的掃描下,HEBS 玻璃內產生的的鹵化銀及銀離子對光產生吸收,造成玻璃的光密度值...
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日期:2024-11-06
10pt 3>針對量測臨界尺寸之需求,已開發出新一代的原子力顯微鏡技術。藉由導入各項新型技術,諸如複合式探針設計、自動化探針校準能力以及表面取樣方式改進等,新世代臨界尺寸原子力顯微鏡(以下簡稱CD AFM)可相當精準地量測出光罩幾何數據。研究 ......