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![CF 相關製程設備介紹 - NEW JEIN INDUSTRIAL CO, LTD]()
www.newjein.com.twColor Layer (RGB) 色阻層, 提供三原色以構成CIE圖上之色彩 製作順序依光阻特性而定, 每廠可能都不同 5. OC Layer Over Coat, 近似TFT之PLN BM & GRB 之後的平坦化 6. ITO Layer TN type: 為LCD動作電容之電極端(另一電極為TFT)瀏覽：482 -
![半導體製程.doc]()
210.70.131.40在所有半導體元件中，離子植入是電晶體結構中一項相當重要的技術。在離子植入 過程中， .... 離子佈植原理是將所需的注入元素電離成正離子，並使其獲得所需的量， 以很快的速度射入晶片的技術。 離子佈植之後會 ... 圖七 離子佈植機. 圖八 氧化擴散爐 ...瀏覽：881
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日期：2024-07-12
基本步驟，舊式技術. •晶圓清洗. •預烤. •底漆層和光阻的旋轉塗佈. •軟烘烤. •對準和曝光. •顯影. •圖案檢視. •硬烘烤. 光阻塗佈. 顯影 ......
瀏覽：686
日期：2024-07-17
... 圖案誤差增加，所以負光阻. 較不適合小於3um以下之製程技術。 ... 乎所有光阻塗 佈皆以旋轉塗蓋(Spin coating)來進行，如下圖所示。 光阻厚度除與光阻液黏性有關 ......
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日期：2024-07-13
Title Touch Panel 簡介 Last modified by casper_wu Document presentation format 如螢幕大小 Other titles Times New Roman 新細明體 Arial Wingdings 細明體 標楷體 Network T o u c h P a n e l Outline 應用市場 觸控面板的分類 電阻式 電阻式結構 for detail 電阻式動作原理 ......
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日期：2024-07-18
原理. ➢在晶片上塗一層感光材料，使用光源的半聚合光，經. 過以玻璃為主體的光罩後，打在感光材料上。 ... 被反射而透過光罩的光束具備和光罩相同的圖案，稱. 為曝光。 ◇微影基本製程 ..... ◇DUV光學式的曝光技術，除了248nm的KrF外，即將導入....
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日期：2024-07-13
6. 壓合 (1) 疊板:將製作完成之內層板與膠片,銅皮組合後進入壓合機 (2) 壓合:施以高溫高壓,使膠片由B階段轉換為C階段,利用此特性將內層 板與銅皮彼此緊密接合 (3) 銑靶撈邊:去除板邊毛料後以CCD 鑽孔鑽出定位靶孔...
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日期：2024-07-11
實驗目的‖實驗器材‖實驗原理‖實驗方法及步驟‖實驗結果 ... 對正光阻而言， 曝光的部分產生光化學反應，使曝光部分與沒曝光部分於顯影液中的溶解度不同，而使 ......
瀏覽：695
日期：2024-07-15
其相關原理簡述如下：. (Ⅰ) 曝光顯影原理簡介（Photo-lithography）. 微影蝕刻( Photolithigraphy)可說是半導體製程中舉足輕重的步驟之一，凡是與MOS結構相關的 ......
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日期：2024-07-11
2012年12月12日 - 曝光显影原理_纺织/轻工业_工程科技_专业资料。譬如说做PCB 板，需要用到蚀刻。 大家看我这样的理解对不对， 喷涂---曝光---显影---固化---蚀刻喷 ......
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