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www.csun.com.tw活性離子蝕刻設備 ‧ 法國阿爾卡特高密度電漿深蝕刻機 ‧ 去殘膠電漿系統 LCM電漿清洗機 ‧ 電漿清潔及表面改質系統 真空晶圓壓膜機 ‧ 真空晶圓壓膜機 ...瀏覽：1146 -
![歡迎光臨~奈米實驗教學網--奈米球之乾式蝕刻]()
www2.nuk.edu.tw乾式蝕刻簡介 所謂的乾蝕刻 ，主要是利用電漿 (Plasma)，而非濕式的溶液來對薄膜進行侵蝕的一種技術，因為蝕刻反應不涉及溶液，所以稱之為乾式蝕刻。其主要優點是蝕刻為非等向性，亦即垂直方向的速率遠大於橫向的速率 ...瀏覽：1108
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日期：2024-07-09
目前一般LED在兩極之間通常夾著三層材料，分別是電洞注入/傳輸層(hole injection/transport layer, HITL)、電激發光層(electron-emitting layer, EML)和電子傳輸 ......
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日期：2024-07-13
電漿基礎原理. 2. 電漿的成分. • 電漿是由中性原子或分子、電子(-）和正電離. 子所構成 ... 非常活潑. • 增進化學反應速率. • 對蝕刻製程和CVD來說非常重要. 8. 電漿 蝕刻....
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日期：2024-07-08
一.實驗目的：氧電漿如何蝕刻有機材料 二.實驗儀器： 1.矽基板及500nm球溶液 2. 電漿機 3.微量滴管 4.原子力顯微鏡 三.實驗原理： 乾式蝕刻簡介 所謂的乾蝕刻，主要是利用電漿(Plasma)，而非濕式的溶液來對薄膜進行侵蝕的一種技術 ......
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日期：2024-07-11
2.4.2電漿原理及現象 .17 2.4.2.1電漿產生 ..17 2.4.2.2電漿特性 ..19 2.4.3電漿處理技術 ..23 ... 圖4.4 SU8-50阻劑於氧電漿處理前後之接觸角變化圖……………88圖4.5 SU8-50阻劑於氧電漿處理前後之水滴接觸角圖……………89...
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奈米球之乾式蝕刻. 實驗目的‖實驗器材‖實驗原理‖實驗方法及步驟‖實驗結果.
一.實驗目的：氧電漿如何蝕刻有機材料....
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面，則使用電漿來清潔及改變材料表面以達到特殊的. 功能及效果。在環保方面,電漿
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近日 研究發現，對半導體材料施以 電漿 表面改質，可以大幅 改善 其光電特性表面 改質主要是利用惰性氣體原子的碰撞，會 ......
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日期：2024-07-12
實驗目的：氧電漿如何蝕刻有機材料. 二.實驗儀器：. 1.矽基板及500nm球溶液. 2.電漿
機. 3.微量滴管. 4.原子力顯微鏡. 三....
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