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  磁控濺鍍機
  
  磁控濺鍍機 (Magnetron Sputter) S O P NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center 本文件及文件之內容屬國科會南區微系統研究中心所有，謹供列印閱讀，未經許可，請勿以任何形式翻製抄襲。 This document is the property of the ...
  
  2024-07-13
  
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- www.cc.ntut.edu.tw
  
  國立台北科技大學奈米光電磁材料技術研發中心
  
  可適用於電機、機械、電子、光學、材料等研究領域。射頻磁控濺鍍機其基本原理乃根據離子濺射原理，當高能粒子（通常是由電場加速的正離子）衝擊到固體表面，固體表面的原子和分子在與這些高能粒子交換動能後，就從固體 ...
  
  2024-07-11
  
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RF Magnetron Sputter - 義守大學 I-Shou University

日期：2024-07-10

射頻磁控濺鍍機 RF Magnetron Sputter ¾儀器功能與規格功能: (1)可濺鍍氮化物如:ZnN、CrN、AlN (2)可濺鍍氧化物:ZrO2、Al2O3 規格: (1)最大輸出功率:RF(600W) (2)射頻產生器操作頻率:13.56 MHz (3)單靶式:3吋靶材 (4)可加熱至600...

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日期：2024-07-14

磁控濺鍍機 Magnetron Sputter Deposition 設備廠商/ 型號 Vendor/Type 和立聯合科技/ Helix/ HLLS-87 功能利用磁力控制增加電漿密度，以離子轟擊靶材濺鍍銅、鋅、鉻、鋁、鈦金屬薄膜(DC gun ......

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Sputter

日期：2024-07-15

中文名稱濺鍍機英文名稱 Sputter 儀器廠牌型號原「 Helix 和利聯合」，今改為「中華聯合」購置年限 2001年 4 月 9 日放置位置博愛校區奈米中心2樓215室 (TEL:55682) 功能 1. 共有兩支濺鍍鎗 (Cathode)，可分別進行各類金屬、非金屬濺鍍於 4 吋圓板片上...

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優必克科技股份有限公司 -- Sputter濺鍍機維修

日期：2024-07-14

Sputter濺鍍機維修 Sputter維修基本規格 ˙ 規格：請洽詢本公司..... ..... 桃園縣桃園市大業路一段18號6樓之1 TEL: 03-331-2677 FAX: 03-335-7412 E-mail ......

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濺鍍機 (Sputter)

日期：2024-07-16

濺鍍機 (Sputter) 廠牌, 型號：主要規格 l RF power supply ： 400 W l DC power supply ： 400 W l Base vacuum ( 5 × 10-6 Torr ) l Heater ：室溫性能說明：成長 Ag, Al, Cr 材料為主服務項目成長 Ag, Al, Cr 之材料薄膜。收費辦法：收費項目 / ......

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Sputter 真空濺鍍系統簡易操作規範

日期：2024-07-13

交大奈米中心真空濺鍍系統B操作規範 1 Sputter 真空濺鍍系統簡易操作規範製表日期:2009/06/01 準備事項先檢查水、氣、電供應是否正常,機台指示牌是否為運轉正常。工作紀錄單上填寫使用者欄。...

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(Sputter)

日期：2024-07-16

濺鍍機 (Sputter) 廠牌, 型號：性能說明：服務項目收費辦法：主要規格 RF power supply：400 W DC power supply：400 W Base vacuum ( 5×10-6 Torr ) Heater：室溫成長Ag, Al, Cr 材料為主成長Ag, Al, Cr 之材料薄膜。...

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