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日期:2024-07-21
PVD鍍膜(離子鍍膜)技術,其具體原理是在真空條件下,採用低氣壓、大電流的電弧
放電技術,利用氣體放電使靶材蒸鍍並使 ......
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日期:2024-07-19
濺鍍(sputtering)是利用電漿(plasma)對靶材料進行離子轟擊(ion bombardment),
而將靶材料表面的原子撞擊出來,這些 ......
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日期:2024-07-17
溅射(sputtering),也稱溅镀(sputter deposition/coating),是一種物理氣相沉積技術
,指固體靶"target"(或源"source")中的 ......
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日期:2024-07-22
談到濺鍍(Sputtering Deposition),就一定要對濺射現象(Sputtering)有基本的了解
。所謂濺射,跟撞球原理非常類似,是指 ......
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日期:2024-07-18
2012年9月19日 ... 濺鍍是一種製程技術,其作法是以高能量離子將固體靶材中的原子撞離靶材,進入
氣體狀態,然後沉積在被 ......
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日期:2024-07-20
濺鍍機,SPUTTER,COATING. ... 本設備為單室結構的磁控濺射鍍膜設備,主要用於
在高分子材料和金屬表面用磁控濺射的 ......