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日期：2024-07-31
頻率為13.56MHz 絕緣靶材上因自我偏壓效應形成直流補償負電位，吸引電漿中. 的
正離子轟擊靶材，使的靶材 ... 鍍膜結束後關閉RF power、主閥，打開真空腔取出鍍好
之基板。 問題與討論：. 1. 鍍膜時為何要 ......
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日期：2024-07-28
PVD是什麼? 2009/6/18 物理氣相沉積法（Physical Vapor Deposition)，簡稱PVD。 PVD一般區分為三種，分別是真空蒸著(Vacuum Evaporation)、濺鍍(Sputtering)、離子鍍著(Ion Plating)。 ①真空蒸著(Vacuum Evaporation) 金屬在真空中加熱時會變成氣體而蒸發 ......
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日期：2024-07-28
濺鍍（sputtering）是利用電漿（plasma）對靶材料進行離子轟擊（ion bombardment），
而將靶材料表面的原子撞擊出來，這些 ......
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日期：2024-07-28
磁控濺射：在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區電子密度高，進而提高離子密度，使得濺鍍率提高（一個數量級），濺射速度可達0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前最 ......
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日期：2024-07-29
一般集熱器使用者會考慮水質結水垢問題 ，本公司備有專利可通洗結構集熱器可供客戶選購。 » 和利斯特WTO SOLAR優異的太陽能集熱標準系統技術關鍵選用優秀的： 1、高熱傳系數金屬材 2、高選擇性真空濺鍍藍色吸收膜...
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日期：2024-08-01
SDC(外觀裝飾鍍膜)於3C產業。 反射或光學鍍膜於光電產業。 移動產品( Notebook , GPS及手機機殼)之EMI防治。 用於3C產業之NCVM(非導電性真空電鍍)鍍膜。...
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2008年3月10日 - 工法包括金屬鐵片、噴塗導電漆、電鍍、鎂鋁合金及真空濺鍍等方式。 本篇就 ... 漆需使用大量化學藥劑，真空濺鍍工法利用化學原理，將金屬原子鍍....
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