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![濺鍍原理]()
ljuhv.com濺鍍原理 2009-01-26 更新 濺鍍原理 在高溫被離子化的氣體極稱為電漿(plasma)。基本上電漿是由部 份解離的氣體及等量的帶正、負電荷粒子所組成，其中所含的氣體具備高度的活性，通常是利用外加電場的驅動而形成，並且會產生輝光 放電(Glow Discharge)的 ...瀏覽：1014 -
![燦元科技股份有限公司-EMI/SDC/FPD/PVD專業真空濺鍍設備製暨真空鍍膜設備造廠,專業濺鍍代工,專業鍍膜代工,綠能 ...]()
www.ehtek-v.com燦元科技股份有限公司,EMI/SDC/FPD/PVD專業真空濺鍍設備製暨真空鍍膜設備造廠,提供專業自動化設備,濺鍍代工,鍍膜代工,綠能發電系統(太陽能發電系統)等,以及客製設備與技術 ...瀏覽：429
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日期：2024-07-29
機、離子濺鍍 混合鍍膜機、離子拋光機、專用實驗機及其檢驗相關的自動檢測系統 ... 真空離 子鍍膜代工 真空濺 射鍍膜代 工 精密離子拋光代工 離子鈍化、去毛邊代工 特殊色系開發及代工 ......
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日期：2024-07-26
濺 鍍原理 陽極處理染色發色技術 化學原理 金屬保護皮膜技術研發 電 化學原理 真空濺鍍技術研發 刀具鍍膜/模具鍍膜研發 特殊真空濺鍍色彩研發 ......
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日期：2024-07-31
富臨科技提供完整之濺鍍設備，包含 垂直/水平連續式濺鍍線、往覆式濺鍍設備、批次式濺鍍機、枚葉式蒸/濺鍍設備等。並已擁有與TFT 5.5G同規格之設備製造能力；擁有國內垂直連續式濺鍍線最多之設備銷售實績；包含半導體後段&電子科技&3C外觀裝飾膜等 ......
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日期：2024-07-28
使用脈衝直流電漿濺鍍。其主要原理是在真空環境，將陰極加至數百伏特電壓，讓通
入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿，並利用電漿的正離子轟擊金屬靶材 ......
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日期：2024-07-27
PVD濺鍍原理. 1. PVD的含義—. PVD是英文Physical Vapor Deposition，中文意思
是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的 ......
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日期：2024-07-25
真空濺鍍處理即在金屬、塑膠、玻璃或其他材質表面鍍膜處理，具有低成本、高緻密度
、高產量與符合綠色環保訴求等優點。真空濺鍍可應用於手機及NB等3C商品的防 ......
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日期：2024-07-29
大永真空成立於1968年，在PVD真空鍍膜領域深耕40多年，擁有一群資深真空設備製造經驗的團隊，不斷投入鍍膜相關設備設計及鍍膜技術的開發，並將技術成果應用至各個產業，包括3C電子、光學、太陽能、汽車、通訊、化妝品、日常用品、玩具及陶瓷塗層 ......
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日期：2024-07-26
PVD是什麼? 2009/6/18 物理氣相沉積法（Physical Vapor Deposition)，簡稱PVD。 PVD一般區分為三種，分別是真空蒸著(Vacuum Evaporation)、濺鍍(Sputtering)、離子鍍著(Ion Plating)。 ①真空蒸著(Vacuum Evaporation) 金屬在真空中加熱時會變成氣體而蒸發 ......
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