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www.yutay-vacuum.com.twYU TAY VACUUM CO., LTD. is one of the leading manufacturers for vacuum relted application equipment,specializing in:1.Vacuum Heat Treatment Furnace 2.Vacuum Coating Machine 3.Special Vacuum Equipment for Research and Production. 真 空 ...瀏覽：1044 -
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www.dahyoung.com主 題 3C外觀件彩色鍍膜介紹 內 容 3C外觀件彩色鍍膜介紹 近年來因3C電子發展迅速，故消費者除了功能上的需求，對3C產品之外觀也越來越以美觀與設計感的產品為優先考量。瀏覽：385
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日期：2024-07-30
本公司專業從事於各種真空設備之製造研究開發，舉凡各種真空鍍 金機、PVD鍍膜、CVD鍍膜、光學多層膜、表面硬化熱處理，汽車輪 圈濺鍍機及各研究實驗鍍膜設備之製造設計。另本公司對於磁控濺 射、電弧濺鍍TIN之設備，大專院校實驗設備製造應用也 ......
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日期：2024-08-01
PVD濺鍍原理. 1. PVD的含義—. PVD是英文Physical Vapor Deposition，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的 ......
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日期：2024-07-31
射頻濺鍍機基本原理乃根據離子濺射原理，當高能粒子(通常是由電場加速的正離子) ... 再行抽真空，此時機械幫浦(MP)自動啟動，當抽到約4*10-2T時會再自動切換到 ......
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日期：2024-08-01
2012年9月6日 - 一般金屬鍍膜大都採用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊 ......
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日期：2024-07-29
2007年2月28日 - 本次微機電的實驗為使用濺鍍的方式來進行薄膜沉積。 http://www2.nkfust.edu.tw/~jcyu/Course/MEMS Lab/q.pdf. 蒸鍍. 蒸鍍鍍膜就是在真空中通過電流加熱、電子束轟擊加熱和鐳射加熱等方法，使薄膜 .... 濺鍍機原理與應用為何?...
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日期：2024-07-25
目錄. 一、前言. 二、原理. 三、儀器廠商和規格. 四、實驗前注意事項. 五、自動濺鍍操作步驟 .... 中(一般為在真空充氬氣) 極高電壓下產生輝光放電形成電漿、則荷能正離....
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日期：2024-07-30
PVD 介紹 鍍膜原理 蒸鍍(Vacuum Evaporation) 濺鍍(Sputtering) 離子蒸鍍(Ion Plating) ... 物理氣相沉積（PVD）處理，又可分為真空蒸鍍( Vacuum Evaporation)、濺 ......
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日期：2024-07-27
射頻磁控濺鍍機其基本原理乃根據離子濺射原理，當高能粒子（通常是由電場加速的 ... (1)真空系統: 腔體內徑為40 cm，高度為40 cm，基板的支撐座之直徑為76 mm； ......
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