search:真空濺鍍相關網頁資料
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![濺鍍原理 - 創新技術]()
www.google.com.tw使用脈衝直流電漿濺鍍。其主要原理是在真空環境，將陰極加至數百伏特電壓，讓通 入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿，並利用電漿的正離子轟擊金屬靶材 ...瀏覽：401 -
![繁體中文 - 友威科技股份有限公司]()
www.google.com.tw友威科技股份有限公司成立於2002年，為集合一群有數年真空設備製造經驗的團隊， 投入鍍膜相關設備設計及濺鍍技術開發，提供客戶真空濺鍍設備及鍍膜代工服務， ...瀏覽：613
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日期：2024-08-13
友威科技股份有限公司成立於2002年，為集合一群有數年真空設備製造經驗的團隊，
投入鍍膜相關設備設計及濺鍍技術開發，提供客戶真空濺鍍設備及鍍膜代工服務， ......
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日期：2024-08-13
高真空濺鍍機SP-HC1500. 一、設備組成：. 1. 本設備為單室結構的磁控濺射鍍膜
設備，主要用於在高分子材料和金屬表面用磁控濺射的方法將銅和鎳濺射上去，厚度
......
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日期：2024-08-13
PVD濺鍍原理. 1. PVD的含義—. PVD是英文Physical Vapor Deposition，中文意思
是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的 ......
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日期：2024-08-15
濺鍍一般是在充有惰性氣體的真空系統中，通過高壓電場的作用，使得氬氣電離，
產生氬離子流，轟擊靶陰極，被濺出的靶材料原子或分子沉澱積累在半導體晶片或 ......
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日期：2024-08-17
電鍍的基本裝置是一電化學電池由陰極、陽極、電源供應器、電鍍液所組成。 1) 陰極
－放置基板或欲電鍍物，隨工件之種類可區分為：. i) 連續帶狀電鍍：以移動帶狀物為
......
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日期：2024-08-15
真空濺鍍處理即在金屬、塑膠、玻璃或其他材質表面鍍膜處理，具有低成本、高緻密度
、高產量與符合綠色環保訴求等優點。真空濺鍍可應用於手機及NB等3C商品的防 ......
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日期：2024-08-17
2009年12月1日 - 2 分鐘 - 上傳者：willy chen
手機專用真空濺鍍鍍膜機In-Line surface decoration tech.wmv....
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