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![蒸鍍 - 維基百科，自由的百科全書]()
zh.wikipedia.org蒸鍍(deposition），將 金屬 和酸化物等 蒸發 ，使其於素材的表面附著形成一層薄膜的一種方法。蒸鍍可大略分為 物理蒸鍍 （PVD）與 化學蒸鍍 (CVD)兩種。 接下來以PVD的一種真空蒸鍍來說明。 半導體器件製造 有機金屬化學氣相沉積法 電漿製程 取自「 http ...瀏覽：628
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A、抽氣機--. 真空度是蒸鍍薄膜的一個首要條件，其主要原因為：. (1)降低氣壓，可
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在鏡面裝飾行業，主要有三種方式：水電鍍、真空電鍍和納米噴鍍。很多人會對納米噴鍍感到格外陌生。不奇怪，納米噴鍍在中國剛剛誕生，但卻受到了塗裝業知名人士的廣泛讚譽，被視爲繼水電鍍、真空電鍍之後又一次偉大的技術革新，不僅可以緩解水 ......
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PVD是什麼? 2009/6/18 物理氣相沉積法（Physical Vapor Deposition)，簡稱PVD。 PVD一般區分為三種，分別是真空蒸著(Vacuum Evaporation)、濺鍍(Sputtering)、離子鍍著(Ion Plating)。 ①真空蒸著(Vacuum Evaporation) 金屬在真空中加熱時會變成氣體而蒸發 ......
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團隊能力 1、研發團隊在真空設備及自動化設備的實務經驗皆十年以上。 2、技術團隊多次至德國世界級連續式濺鍍設備大廠受完整技 術養成訓練。3、具有Batch式真空蒸鍍機、In-line真空濺鍍機、真空電漿...
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