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日期:2024-08-24
一、實驗目的 學習利用熱蒸鍍及電漿濺鍍法(Sputtering Deposition in Plasma Environment)製作金屬薄膜。1.瞭解真空技術的基本知識; 2.掌握低、高真空的獲得和測量的基本原理及方法; 3.瞭解真空鍍膜的基本知識; 4.學習掌握蒸鍍鍍膜的基本原理和方法....
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日期:2024-08-23
Investor Relations 繁體|簡体 English About linco Product info Technology Customer service News Employee Benefits Lincotec's R&D team members all came from high technology industries such as semiconductor equipment and IC ...more more Established ......
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日期:2024-08-20
機械幫浦、擴散幫浦、閥門與管路系統、真空腔(直徑四十二公分、高五 ... 機械幫浦(
mechanical pump)工作原理 ... 僅為簡單擴散幫浦原理,. 1-2(2)為詳細構造。此為
三級擴散幫浦,亦即三個噴嘴相串聯。當幫....
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日期:2024-08-22
金.銀.銅,鎳合金.氮化鈦.氧化鈦.氮化鋯.黑鉻.彩色氧化膜. ... 真空PVD鈦金商機無限, 濺鍍SPUTTERING.真空離子IP鍍膜.真空機械設備製造.電鍍代工.EMI,塑膠,壓克力,陶瓷,玻璃,飾品,五金,汽機車,LED,手機,光電,半導體,晶圓,醫療器材工具,鍍膜铣鑽頭,化妝品,光學...
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日期:2024-08-21
PVD濺鍍原理. 1. PVD的含義—. PVD是英文Physical Vapor Deposition,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的 ......
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日期:2024-08-24
真空鍍膜-1 真空鍍膜 【目的】 1.學習和掌握高真空的獲得與測量方法。 2.學習有關物理概念,掌握真空鍍膜機的使用方法。 【原理】 將鋁和載玻片置於真空(5×10 −5 Torr)狀態中,利用電流的熱效應,將鋁於鎢舟中加熱,...
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日期:2024-08-19
P.V.D.(Physical Vapor Deposition) 物理氣相沈積, 是各種 真空鍍膜 的 通用術語,是一種 高科技加工技術.其原理是 利用真空高溫的環境使金屬離子化並與氣體融合,進而附著在被鍍物表面產生新的合金薄膜. 其應用範圍:各類金屬、塑膠、玻璃等...之表面裝飾...