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        濺鍍機,SPUTTER,COATING ... 濺射靶:四隻非平衡平面磁控濺射靶在真空室的一周均勻(90 度)對稱 放置,組成一個封閉的閉合磁場系統(見示意圖 1);靶體做成手動可 ...
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        磁 控 濺 鍍 機 (Magnetron Sputter) S O P NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center 本文件及文件之內容屬國科會南區微系統研究中心所有,謹供列印閱讀,未經許可,請勿以任何形式翻製抄襲。 This document is the property of the ...
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    日期:2024-11-14
    真空, 真空濺鍍, 真空蒸發鍍, 磁控濺鍍 ttnet.net 相關產品關鍵字搜尋 : 真空, 電鍍, 真空電鍍, 電鍍設備, 真空鍍膜, 手機按鍵 ttnet.net 相關產品分類搜尋 : 機械, 金屬加工機械, 金屬電鍍機 請注意 本網頁訊息為企業自行提供,並由該企業負責其真實性與 ......
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    日期:2024-11-14
    射頻磁控濺鍍機 RF Magnetron Sputter ¾儀器功能與規格 功能: (1)可濺鍍氮化物如:ZnN、CrN、AlN (2)可濺鍍氧化物:ZrO2、Al2O3 規格: (1)最大輸出功率:RF(600W) (2)射頻產生器操作頻率:13.56 MHz (3)單靶式:3吋靶材 (4)可加熱至600...
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    日期:2024-11-15
    磁控濺鍍機 其基本原理乃根據離子濺射原理,當高能粒子(通常是由電場加速的正離子)衝擊到固體表面,固體表面的原子和分子在與這些高能粒子交換動能後,就從固體表面飛出來,此現象稱之為「濺射」。先利用電場使兩極間產生電子,這些 ......
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    日期:2024-11-10
    磁 控 濺 鍍 機 高敦科技股份有限公司 台北縣中和市中正路738號3樓之8 TEL : 02-82261488 FAX : 02-82261499 http://www.kaoduen.com.tw 2 1.0 設備名稱: 磁控濺鍍機 2.0 重要規格: 真空腔體 FIG.1 CHAMBER ......
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    日期:2024-11-15
    國立台北科技大學 奈米光電磁材料技術研發中心 射頻磁控濺鍍機 (RF magnetron sputter) 使用及管理辦法 射頻磁控濺鍍機( RF magnetron Sputter)是一種薄膜製程的儀器,可適用於電機、機械、電子、光學、材料等研究領域。...
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    日期:2024-11-15
    真空濺鍍機HC-1800 代工鍍膜產品 真空零件 友站連結 wafer,Cr , Ta , Al ,Ti ,Cu ,Ag ,Ni , SUS 加工膜層技術標準 真空測漏儀VGT-518 衛星導航地圖 台灣網域註冊管理中心 ......
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    日期:2024-11-13
    電鍍設備類別下之連續式磁控濺鍍機由承益真空科技有限公司於台灣生產製造,提供台灣製造製造之產品及其產品簡介,包含原產地及產品說明等重要貿易資訊,承益真空科技有限公司以 出口, 製造銷售,更讓買家能快速地向承益真空科技有限公司採購 ......
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    日期:2024-11-10
    磁控濺鍍機 Magnetron Sputter Deposition 設備廠商/ 型號 Vendor/Type 和立聯合科技/ Helix/ HLLS-87 功能 利用磁力控制增加電漿密度,以離子轟擊靶材濺鍍銅、鋅、鉻、鋁、鈦金屬薄膜(DC gun ......