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  半導體廠超純水簡介
  
  34 第七卷第四期毫微米通訊二氧化矽 ( s i l i c a ) 、溶氧 (dissolved oxygen) 含量分別小於 1µ g C / l 、0.5 µ g S i O 2 /l、與 1 µ g / l ，且細菌與重金屬含量分別小於 0.1 個 / l 、5 ng/l 。超純水【ultrapure water (UPW) or super
  
  2024-09-11
  
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  2 超純水 test
  
  4 計測之定量達到下限值以下的標準。提高構成超純水製造系統各單元的性能，並採用低溶出液體基材，達到清潔施工技術等的成果。但是，對於微粒子方面無法完全滿足ITRS2006 的水質需求，對於這個問題，正朝向提出新測定方
  
  2024-09-14
  
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