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日期:2024-08-03
本論文主在探討增強型下閘極氧化鋅透明薄膜電晶體元件特性,利用射頻共濺鍍系統 濺鍍成長氧化鋅緩衝層與含微量鋁金屬氧化鋅通道層薄膜,並比較有無氧化鋅緩衝 ......
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日期:2024-08-05
本論文主題為利用氧化鋅(ZnO)透明半導體薄膜,製作透明薄膜電晶體元件。使用 射頻濺鍍,於室溫下改變氧/氬工作氣體比例、電漿功率等參數,沉積非晶質氧化 ......
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日期:2024-08-03
本計劃預計以三年時間,開發高效能、高穿透率非晶氧化物半導體(amorphous oxide semiconductor)的薄膜電晶體。研究....
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日期:2024-08-05
本年度的計劃為開發一種新型薄膜電晶體,採用透明氧化鋅半導體材料為主動層材料 。氧化鋅其能隙為3.27eV左右,介於可見光可穿透區域部份,故....
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日期:2024-08-02
2010年3月23日 ... 近年來,透明氧化物半導體薄膜電晶體相較於傳統的非晶矽薄膜半導體電晶體或低溫 多晶矽薄膜半導體電晶體已引起相當大的注意,主要是因為它 ......
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日期:2024-07-30
氧化鋅鎵薄膜透明電晶體之研製. A Research on the Fabrication of Transparent GZO Thin Film. Transistors. 研究生:黃子洋Chee-Yong Wong. 指導教授: ......
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日期:2024-08-03
近年來,透明氧化物半導體薄膜電晶體已引起廣大的注意,主因是它具有低溫多晶矽 薄膜電晶體技術之高載子移動率的電氣特性、可在較低溫下成長、及非晶矽薄膜電 ......
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日期:2024-08-05
薄膜電晶體(Thin Film Transistor, TFT)在主動陣列式(Active Matrix, AM)有機發光二 ... 此外以奈/微米矽晶(nc/µc-Si)以及透明金屬氧化物半導體(TCO)為主動層的兩類 ......