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日期:2024-08-10
在實際操作上為了提高清潔效果必需提高電漿系統的壓力。 圖2-2:大氣電漿示意 2-2 大氣電漿設備原理[2] 氧氣經由電漿解離,會產生大量的自由基粒子(如下式),這些 ......
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日期:2024-08-09
電漿為一部份離化之氣態,電漿中含有中性的氣體分子、離化的分子、激. 態分子及 ... 三、電漿原理 ..... 大氣電漿,其原理大致相同,主要為電極設計不同造成的差異。...
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日期:2024-08-16
第六卷第一期 化學機械研磨後清洗技術簡介 蔡明蒔 國家奈米元件實驗室 前言 自1997年開始,半導體製程邁進0.5微米元件線幅以下,幾乎所有半導體製造廠開始採用化學機械研磨技術(Chemical Mechanical Polishing, CMP)。...
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日期:2024-08-13
廣義而言,電漿是指一發光的、電中性(electrically neutral)的離子氣團,在這氣團中
... 電漿蝕刻主要應用於清除表面污染物,具有清潔之功效;並且造成基材表面氧化、 ......
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日期:2024-08-11
另外在半導封裝及紡織業方面,則使用電漿來清潔及改變材料表面以達到特殊的功能
及效果。在環保方面,電漿火炬可以安全固化焚化爐所產生之高污染灰渣。甚至在 ......
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日期:2024-08-15
壹. 基本原理. 經Enercon電漿清洗機(Plasma)高壓放電所產生電離子氣體,藉由空氣
壓縮機將氣體. 噴出電離子氣體(電漿),當離子氣體接觸工件表面時,產生化學作用 ......
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日期:2024-08-12
2012年4月10日 ... 電漿清洗時腔體為何需抽離到真空狀態?為何需加入製程氣體?而電漿清洗時的原理
?...
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日期:2024-08-12
3.1 電漿清洗原理. 11. 3.2 電漿產生方法. 12. 3.3 電漿清洗系統介紹. 13. 第四章電漿
清洗之實驗架構及清洗參數搭配之決定....