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![Plasma]()
www.cnledw.com2010年4月2日 ... Valve. Pump. DC. Power. 解離反應 e-+X. 2. 2X+e-. 激發反應 e-+X. X*+e-. 離子化 反應e-+X. 2. X. 2. ++2e- e-+X. 2. 2X++3e-. 電漿原理介紹 ...瀏覽：1487 -
![半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 大氣電漿(AP)應用於有機物清除設備之簡介 - Semicondutor Magazine]()
ssttpro.acesuppliers.com2-2 大氣電漿設備原理[2] 氧氣經由電漿解離，會產生大量的自由基粒子(如下式)，這些自由基粒子會與碳氫化合物及表面的氧化物起反應，尤其其中的氧自由基容易與油性物質或與低分子有機物產生揮發性的產物，輕易的被鈍性氣體帶走。如 ...瀏覽：751
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日期：2024-08-10
在實際操作上為了提高清潔效果必需提高電漿系統的壓力。 圖2-2：大氣電漿示意 2-2 大氣電漿設備原理[2] 氧氣經由電漿解離，會產生大量的自由基粒子(如下式)，這些 ......
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日期：2024-08-09
電漿為一部份離化之氣態，電漿中含有中性的氣體分子、離化的分子、激. 態分子及 ... 三、電漿原理 ..... 大氣電漿，其原理大致相同，主要為電極設計不同造成的差異。...
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日期：2024-08-16
第六卷第一期 化學機械研磨後清洗技術簡介 蔡明蒔 國家奈米元件實驗室 前言 自1997年開始，半導體製程邁進0.5微米元件線幅以下，幾乎所有半導體製造廠開始採用化學機械研磨技術(Chemical Mechanical Polishing, CMP)。...
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日期：2024-08-13
廣義而言，電漿是指一發光的、電中性(electrically neutral)的離子氣團，在這氣團中
... 電漿蝕刻主要應用於清除表面污染物，具有清潔之功效；並且造成基材表面氧化、 ......
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日期：2024-08-11
另外在半導封裝及紡織業方面，則使用電漿來清潔及改變材料表面以達到特殊的功能
及效果。在環保方面,電漿火炬可以安全固化焚化爐所產生之高污染灰渣。甚至在 ......
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日期：2024-08-15
壹. 基本原理. 經Enercon電漿清洗機(Plasma)高壓放電所產生電離子氣體，藉由空氣
壓縮機將氣體. 噴出電離子氣體(電漿)，當離子氣體接觸工件表面時，產生化學作用 ......
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日期：2024-08-12
2012年4月10日 ... 電漿清洗時腔體為何需抽離到真空狀態?為何需加入製程氣體?而電漿清洗時的原理
?...
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日期：2024-08-12
3.1 電漿清洗原理. 11. 3.2 電漿產生方法. 12. 3.3 電漿清洗系統介紹. 13. 第四章電漿
清洗之實驗架構及清洗參數搭配之決定....
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