search:電漿蝕刻相關網頁資料
電漿蝕刻的相關文章
電漿蝕刻的相關公司資訊
電漿蝕刻的相關商品
瀏覽:910
日期:2024-08-10
物理雙月刊(廿八卷二期)2006 年4 月 440 電漿源原理與應用之介紹 文/張家豪,魏鴻文,翁政輝,柳克強 李安平,寇崇善 吳敏文,曾錦清,蔡文發,鄭國川 摘要 電漿科技已廣泛應用於科學研究及工業製程,成為現代科技的重要指標。...
瀏覽:906
日期:2024-08-09
建置在本中心之 STS 感應耦合電漿 離子蝕刻系統,其硬體基本規格如下:上電極線圈為 1000 W、頻率 13.56 MHz 的 RF 電源,下電極為 300 W、頻率 13.56 MHz 的 RF 電源。晶片冷卻方式為背面氦氣冷卻 ......
瀏覽:736
日期:2024-08-08
奈米球之乾式蝕刻. 實驗目的‖實驗器材‖實驗原理‖實驗方法及步驟‖實驗結果.
一.實驗目的:氧電漿如何蝕刻有機材料....
瀏覽:704
日期:2024-08-10
另外在半導封裝及紡織業方面,則使用電漿來清潔及改變材料表面以達到特殊的功能
及效果。在環保方面,電漿火炬可以安全固化焚化爐所產生之高污染灰渣。甚至在 ......
瀏覽:906
日期:2024-08-10
(Dry Etching)又稱為電漿蝕刻(Plasma Etching)且屬於非等向性蝕刻,所以是目前 ... 感應耦合型電漿相較於反應離子蝕刻的腔體構造基本上相同,但前者多感應線圈 ......
瀏覽:775
日期:2024-08-04
敘述電漿蝕刻製程的順序. ‧瞭解蝕刻 .... 氧電漿灰化(Oxygen plasma ashing):有機
..... 光感測器可偵測顏色變化,指出電漿蝕....
瀏覽:1007
日期:2024-08-07
化學機械研磨(Chemical Mechanical Polishing,簡稱CMP)製程憑著其全面平坦化之優勢而成為半導體製程中不可或缺的一環,由於在研磨過程中研磨漿消耗量非常之大,成為CMP製程中最主要之耗材。Laredo Associates機構曾於2000年針對CMP研磨漿全球市場作 ......
瀏覽:812
日期:2024-08-08
welcome, 志聖工業股份有限公司. ... 高密度電漿蝕刻設備. ‧, 電漿輔助化學氣相沉積設備. ‧, 活性離子蝕刻設備. ‧, 法國阿爾卡特高密度電漿深蝕刻機. ‧, 去殘膠電漿系統 ......