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日期:2024-08-15
說明:薄膜太陽電池可以使用在價格低廉的玻璃、塑膠、陶瓷、石墨,金屬片等不同材料當基板來製造,形成可產生電壓的薄膜厚度僅需數μm,因此在同一受光面積之下可較矽晶圓太陽能電池大幅減少原料的用量(厚度可低於矽晶圓太陽能電池90%以上 ......
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日期:2024-08-12
活性離子蝕刻設備 ‧ 法國阿爾卡特高密度電漿深蝕刻機 ‧ 去殘膠電漿系統 LCM電漿清洗機 ‧ 電漿清潔及表面改質系統 真空晶圓壓膜機 ‧ 真空晶圓壓膜機 ......
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日期:2024-08-12
電漿輔助化學氣相沈積(PECVD)是CVD技術中的一種,其沈積原理與一般CVD並
沒有太大差異。PECVD是使用電漿中化學 ......
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日期:2024-08-14
远距电浆增强化学气相沉积(Remote plasma-enhanced CVD, RPECVD):和
PECVD技术很相近的技术。但晶圆不直接放在 ......
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日期:2024-08-16
中文名稱, 電漿輔助化學氣相沉積系統, 英文名稱. Plasma-Enhanced Chemical
Vapor Deposition(PECVD). 儀器廠牌型號....
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日期:2024-08-10
Applied Producer BLOk (屏障阻絕低介電常數k) 電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)
系統可產生業界領先的超低介電常數銅 ......
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日期:2024-08-14
加熱成長. ‧氧來自氣相的氧. ‧矽來自基片. ‧薄膜成長氧進入基片. ‧品質較高. CVD. ‧氧和矽都 ... PECVD :電漿增強型化學氣相沉積法 .... 高密度電漿CVD(壓力數毫托) ......
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日期:2024-08-12
感應耦合電漿原子發射光譜法 中華民國102年12月4日環署檢字第1020104884號公告 自中華民國103年3月15日生效 NIEA M104.02C 方法概要 本方法利用同時式(Simultaneous)或連續式(Sequential)感應耦合電漿原子發射光譜儀(Inductively coupled plasma ......