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![廠商資訊 - 台灣電子設備協會]()
www.teeia.org.tw本會緣於台灣光電與半導體設備產業協會(TOSEA)，成立於2005年12月14日，並於2010年6月完成更名為台灣電子設備協會(TEEIA)，為一非營利目的之產業同業組織。主要是推廣台灣電子、光電、半導體、顯示器、觸控面板、有機發光顯示器、太陽能電池、光電 ...瀏覽：1242 -
![佳霖科技股份有限公司]()
www.challentech.com.tw液體臭氧分析儀. dFFOZ. IN USA IN USA - 即時量測液態臭氧濃度 - 無耗材 - 量測範圍：150 mg / L - 高精度紫外吸收法 - 無需要定期.. + More TFS 200 Beneq 芬蘭 1.彈性的研究平台並具備高度的模組化設計 2.可配備電容耦合式電漿系統: capacitively-coupled p..瀏覽：514
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出刊號 內 容 索 引 第39期 國家奈米元件實驗室 主任的話 關於NDL 育才 服務 研發 先進半導體製程服務平台簡介 最新論文資訊 一維奈米針矩陣的製作與特性分析...
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日期：2024-08-13
化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition) 國立臺灣大學化學系學士生張育唐/國立臺灣大學化學系陳藹然博士責任編輯 化學氣相沉積法，是一種化學上常用的合成過程，其目標是生產高效能且高純度的一些化學材料。...
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日期：2024-08-15
太陽能濺鍍設備 ... 平板顯示器自動化設備 · 批次式鍍膜設備及實驗設備 · 小量代工服務 · 二手設備買賣(1) · 二手設備買賣(2). PECVD電漿輔助化學氣相沉積. 1....
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日期：2024-08-15
CVD 原理. ◇反應氣體從反應器的主氣流裏，藉著反應氣體在主氣流及晶片. 表面間
的濃度差，以擴散的方式，經過邊界層 ......
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日期：2024-08-13
2-1 二氧化碳雷射基本原理… ... 表1-1 不同CVD 沉積不同材料的溫度比較… … …
… … … … … … 3. 表3-1 熱電漿與冷電 ......
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日期：2024-08-17
劉柏村、蔡明蒔 / 國家奈米元件實驗室 張鼎張 / 國立中山大學物理系副教授 蔡宗鳴 / 國立交通大學電子所博士生 本篇文章探討了含甲基的矽酸鹽低介電常數薄膜之化學機械研磨(chemical mechanical polish，CMP)製程。除此之外，我們也研究了化學機械研磨製程 ......
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系統具有何特色? 一般CVD均是在高溫的基板下產生沉積反應，如果以電漿激發 ......
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日期：2024-08-17
AST聚昌科技Cede-200電漿輔助化學氣相沉積系統，是套可升級支援200mm單晶圓
、可搭配多反應室的先進電漿介電質薄膜沈積製程設備，此系統可應用在製作高 ......
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