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![馗鼎奈米科技股份有限公司＜公司簡介及所有工作機會＞─104人力銀行]()
www.104.com.tw馗鼎奈米科技股份有限公司,光電產業,馗鼎奈米科技之技術團隊在電漿領域的研發已有十餘年的歷史，在國內對於電漿技術的開發可說位於領導的地位，目前已是國內最大常壓電漿設備生產製造商，其產品穩定性及可靠度深獲國內面板大廠肯定，已獲國內 ...瀏覽：879 -
![薄膜沈積製程技術]()
rdweb.adm.nctu.edu.tw薄膜沈積製程 技術 (Thin Film Deposition) 劉柏村教授 交通大學光電工程學系/顯示科技研究所 E-mail: ptliu@mail.nctu.edu.tw TEL: 5712121 ext. 52994 2 積體電路從晶圓的拉晶、製造到構裝完成的簡易流程 ...瀏覽：1399
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電漿的基礎原理 2 目標 • 列出至少三種用到電漿的半導體製程 • 列出電漿中的主要三種碰撞 • 說明平均自由路徑 • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程 • 列出兩 ......
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日期：2024-07-07
電漿輔助化學氣相沉積 Model: PECVD-Clip Series Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) 規格: 一. 綜合說明: 腔體上蓋板上掀式設計，手動放置晶片, ......
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日期：2024-07-06
2. 目標. • 列出至少三種用到電漿的半導體製程. • 列出電漿中的主要三種碰撞. • 說明平均自由路徑. • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程. • 列出兩種高密度電漿源 ......
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日期：2024-07-11
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日期：2024-07-09
本文先對電漿現象及原理作概述，再針對電漿應用. 到蝕刻、濺鍍及輔助 ... 異，而一般用在PECVD 鍍膜的電漿源其解離率小於1%，近幾年由於對鍍膜要. 求的嚴苛， 如 ......
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日期：2024-07-10
ETCH製程所用之關鍵零件提供草酸 陽極、硫酸 陽極、硬質 陽極等 陽極處理，此 陽極 ... 半導體/光電機台零件之超潔淨清洗再生 ......
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日期：2024-07-08
9 CVD應用 薄膜 源材料 Si (多晶) SiH 4 (矽烷) 半導體 SiCl 2H 2 (二氯矽烷；DCS) Si (磊晶) SiCl 3H (三氯矽烷；TCS) SiCl 4 (四氯矽烷；Siltet) LPCVD SiH 4, O 2 SiO 2 (玻璃) PECVD SiH 4, N O 介電質 PECVD Si(OC 2H 5) 4 (四乙氧基矽 ......
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日期：2024-07-10
CVD 原理 (a)反應物以擴散通過介面邊界層。(b)反應物吸附在晶片表面。(c)化學沉積反應發生。(d)部份生成物藉擴散通過介面邊界層。(e)部分生成物與未反應物進入主氣流裡，並離開系統。捷胤工業有限公司...
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