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www.ndl.org.twSpecifications FPA-3000i5+ i-line (365nm) Stepper Resolution 0.35 micron (dense lines) NA 0.63 – 0.45 ... 現行微影製程所使用的曝光機台主要是由光學投影系統及X-Y曝光平台所構成的，光學投影系統決定了曝光機台對阻劑層的解析極限，而X-Y平台則影響機台 ...瀏覽：432 -
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