search:canon曝光機相關網頁資料

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        Specifications FPA-3000i5+ i-line (365nm) Stepper Resolution 0.35 micron (dense lines) NA 0.63 – 0.45 ... 現行微影製程所使用的曝光機台主要是由光學投影系統及X-Y曝光平台所構成的,光學投影系統決定了曝光機台對阻劑層的解析極限,而X-Y平台則影響機台 ...
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        3.面試是否要考試?哪方面的? 4.薪資結構計算(小弟今年二技電子即將畢業) 5.是否輪班?輪班方式? » 分享到 無圖示 ... 能有機會進去是最好畢竟是日商公司比台灣 老闆懂的照顧員工 柷版主 順利成功 le071927 2007-05-12 18:37 #9 文章編號: 2797782 ...
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    日期:2024-11-08
    你有任何關於 canon 曝光機 原理, canon 曝光機,曝光機原理的相關資料都在這裡。 ... 黃光微影主要就是曝光機 ......
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    日期:2024-11-14
    佳能CANON 硅晶片製造原理(半導體 曝光機)原理3D展示 ......
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    日期:2024-11-14
    ... 整理,2011/3 日本設備廠 南韓自製率超過50% 南韓自製率未及50% ULVAC - PECVD、濺鍍機 Nikon - 曝光機 ......
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    日期:2024-11-08
    你有任何關於 canon 曝光機,excimer laser 193nm 在半導體製程,關於” 佳能”半導體設備商,可否幫忙分析依下 ......
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    日期:2024-11-09
    請問~何謂 黃光微影週邊設備?他的設備有哪些?怎麼使用?請大家幫幫忙~~課程要用的~幫幫忙~~謝謝~~ ... 黃光微影主要就是 ......
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    日期:2024-11-14
    關於我們: 業界知名的 曝光機製造商ABM, Inc. ......
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    日期:2024-11-15
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    日期:2024-11-10
    曝光機台出問題 次世代產能開出添變數 (邵琮淳/採訪中心) 2004/11/29 Canon曝光機 ......