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![億昇幫浦股份有限公司]()
www.iwakipumps.com.tw億昇幫浦為日本IWAKI PUMP在台灣(TAIWAN)的合資公司，億昇幫浦提供高品質的IWAKI,BREDEL與WAUKESHA PUMP(泵浦/加藥機)產品適用於燃料電池,太陽能系統,光電半導體,電路板電鍍,醫療儀器,化工食品與環保水處理的製程與設備。億昇幫浦歡迎上網查詢 ...瀏覽：1054
cmp製程的相關商品
![台灣教育網>> 公開課程>> [網路課]半導體製程介紹 -隨 ...](https://www.iarticlesnet.com/pub/img/site/s_29.jpeg)
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日期：2024-10-05
尤其電子產業根留台灣的核心技術製程能力，禮邀產學界資深講師，特別開授『半導體製程介紹』課程。 為期2天，內容契合業界需求，奠定半導體製程能力基礎 ......
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日期：2024-10-06
半導體製程中平坦化技術的重要性隨著製程線寬的的縮小與元件積集度的提高，相較於過去有更嚴格的要求，CMP (Chemical Mechanical Planarization)製程能力的競賽與後段微影製程的好壞有著直接的影響，這些都攸關生產線良率的變化，因此，伴隨著終端客戶的 ......
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日期：2024-10-09
10pt 3>因為新材料的引入，使得高介電常數金屬閘極(high-k metal-gate, HKMG)CMOS電晶體的量產製程整合化更形複雜。後閘極(gate-last)HKMG製程需要兩個新的化學機械研磨(CMP)製程，兩者對最終閘極高度(gate height)與表面形貌(topography)都需要極度的 ......
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日期：2024-10-11
小尺寸之顯像解析. 度，更在IC 製程的進步上，扮演著最關鍵的角色。由於光學上. 的
需要，此段製程之照明採用偏黃色的可見光。因此俗稱此區為. 黃光區。 乾式蝕刻....
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日期：2024-10-09
化學性機械研磨法(Chemical Mechanical Polishing, CMP)過程中主要的消耗性材料包括研磨墊、研磨液和研磨墊調節器。在CMP製程中，研磨墊和鑽石調節器間的交互作用是個複雜的過程，對CMP製程模組的成本有重要的影響... 化學性機械...
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日期：2024-10-08
．半導體事業第一部 半導體化學機械研磨製程(CMP) 以獨特發泡技術製成之研磨墊，提供良好平坦度並減輕Defect，適用於下列CMP製程： Copper Barrier研 磨 絕緣層研磨 其他細磨製程(Buffing) 欲知詳情及索取資料請電洽：...
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日期：2024-10-04
鑽石研磨墊整理器 長效的3M鑽石研磨墊整理器提供你適度的拋光墊表面，下一代的先進設計給你可靠的研磨表現，嚴謹的鑽石佈鑽排列產生穩定的研磨結果，優異鑽石固著技術大幅降低刮傷機率。 了解詳情...
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日期：2024-10-05
智勝科技創立於2002年，專注於半導體及光電產業之關鍵性耗材之研發製造與銷售 以協助客戶降低成本與提升製程穩定性為目標 應用範圍已涵蓋 化學機械研磨製程(CMP),蝕刻清洗製程(Etch/clean),陶瓷及金屬合金之研磨與拋光製程(Grinding/Polish),有機金屬化學氣 ......
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