search:maxis icp相關網頁資料

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    日期:2024-07-30
    乾蝕刻機(ICP)承載盤(ICP Tray或者Shuttle Quality )在ICP for PSS(Pattern sapphire substance) 製程具重要性的承載容器,具有較佳的均勻性(uniformity)及耐蝕刻性 ......
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    日期:2024-07-30
    MAXIS ICP & RIE Etching system · Withlight Goniophotometer OPI-300/305 · DNK/AlpsTek Laser Scriber & Breaker systems · Withlight LED Thermal Tester ......
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    日期:2024-07-31
    2013年4月24日 - ... 開發進行研究,首先利用日本Nikon NSR系列步進式曝光機於藍寶石基板上進行黃光圖形定義,接著利用韓國Maxis電感耦合電漿蝕刻機(ICP-RIE) ......
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    日期:2024-08-05
    2012年11月2日 - 和Maxis的ICP,主刻蚀. 气体是BCl3,H2作为辅. 助调整选择比,此步直. 接决定了未来你的产品. 可以提高LED芯片多少. 亮度,所以相对比较关....
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    日期:2024-07-30
    蚀刻:北微ICP% T, k1 I2 w R; U* n' v& p P ... 北微ICP.,选择比很小,要做厚胶工艺,工艺不好控制。 ..... 刻蚀用进口,韩国的MAXIS的ICP做的不错 ......
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    日期:2024-07-30
    2 Pages: ChamberCleaning: 准名设备运用标准最少保留期限下届改正时制作部门PSS 事业部设备名Maxis-300L 作业指导书PSS 事业部作业名ICP Tray 清洗PAGE ......
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    日期:2024-07-30
    2010年4月30日 - MAXIS DRIE Etcher 1; MAXIS DRIE Etcher 2; MAXIS DRIE Etcher 3 ... Advanced Multi ICP Source Coil(High Density Plasma); Multi Bias Source ......