search:pecvd電漿相關網頁資料
-
-
![Plasma processing - Wikipedia, the free encyclopedia]()
en.wikipedia.orgPlasma processing is a plasma-based material processing technology that aims at modifying the chemical and physical properties of a surface. Plasma processing techniques include: Plasma activation Plasma etching Plasma modification Corona treatment Plasma瀏覽：992 -
![PECVD - 俊尚科技股份有限公司]()
www.junsun.com.tw什麼是PECVD？ 電漿輔助化學氣相沈積（PECVD）是CVD技術中的一種，其沈積 原理與一般CVD並沒有太大差異。PECVD ...瀏覽：1410
pecvd電漿的相關公司資訊
瀏覽：1000
日期：2024-07-13
電漿輔助化學氣相沈積（PECVD）是CVD技術中的一種，其沈積原理與一般CVD並
沒有太大差異。PECVD是使用電漿中化學 ......
瀏覽：1356
日期：2024-07-06
远距电浆增强化学气相沉积（Remote plasma-enhanced CVD, RPECVD）：和
PECVD技术很相近的技术。但晶圆不直接放在 ......
瀏覽：1496
日期：2024-07-10
中文名稱, 電漿輔助化學氣相沉積系統, 英文名稱. Plasma-Enhanced Chemical
Vapor Deposition(PECVD). 儀器廠牌型號....
瀏覽：1369
日期：2024-07-06
Applied Producer Avila 電漿輔助化學氣相沉積(PECVD) 系統的高品質氮化矽和
氧化矽薄膜系列符合矽穿孔(TSV) 和其他 ......
瀏覽：1397
日期：2024-07-09
Applied Producer Celera PECVD (電漿輔助化學氣相沉積) 系統提供可調式壓縮及
伸張高應力氮化矽薄膜，可運用在45奈米 ......
瀏覽：413
日期：2024-07-09
Applied Producer BLOk (屏障阻絕低介電常數k) 電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)
系統可產生業界領先的超低介電常數銅 ......
瀏覽：718
日期：2024-07-06
傳統的PECVD反應室中的游離化速率是多少？ 答:百萬分之一到千萬分之一. 3.列出
電漿中三種重要的碰撞並說明其重要性。...
瀏覽：1178
日期：2024-07-13
電漿輔助化學氣相沉積 Model: PECVD-Clip Series. Plasma Enhanced Chemical
Vapor Deposition (PECVD) ......
網友正在看
熱門 ces 2015 文章
熱門 雲端儲存 文章
![示範安裝 iOS 8 自訂鍵盤: 和傳統 Apps 不同 將令「垃圾 Apps 圖示」大增 [影片]](https://www.iarticlesnet.com/pub/img/article/29137/1403963682611_xs.jpg)
