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日期:2024-09-03
跪求各位達淫,我是一個新手,半導體生產中使用的各種蝕刻液(主要是與磷酸有關的部分)與所對應蝕刻的材料。工藝知識是否能指點下小弟。謝謝了。...
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日期:2024-08-30
一般典型濕式的清洗RCA流程會包含以下. 步驟: ... 金屬含量。 ○ RCA Standard
Clean 1〈SC-1又稱APM; ... SPM工作原理(1)先從定量槽Flow down硫酸....
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日期:2024-08-29
一般典型濕式的清洗RCA流程會包含以下. 步驟: ... 金屬含量。 ○ RCA Standard Clean 1〈SC-1又稱APM; ... SPM工作原理(1)先從定量槽Flow down硫酸....
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日期:2024-09-03
2007年11月5日 ... Cleaning & Diffusion. Dr. Chuan H. Liu .... 超音波清洗(Megasonic Clean) 的原理
... Wet clean recipe 主要仍以RCA 洗淨技術為主, 只有在化學配....
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日期:2024-09-03
2007年11月5日 - Cleaning & Diffusion. Dr. Chuan H. Liu .... 超音波清洗(Megasonic Clean) 的原理 ... Wet clean recipe 主要仍以RCA 洗淨技術為主, 只有在化學配....
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日期:2024-08-28
RCA Standard Clean 1 (SC-1,又稱APM),NH4OH/H2O2/H2O 主要應用 ... 主要
應用於金屬離子的去除,其原理為HCl所形成之活性離子易與金屬離子化合。一般是
......
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日期:2024-08-29
RCA Standard Clean 1 (SC-1,又稱APM),NH4OH/H2O2/H2O 主要應用 ... 主要應用於金屬離子的去除,其原理為HCl所形成之活性離子易與金屬離子化合。一般是 ......
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日期:2024-09-04
2012年8月13日 - 試片清洗(RCA clean)實驗地方:ME202 時間:2009/5/14 大綱? ? ? ? ? ? ? 實驗目的原理藥品與儀器實驗流程注意事項實驗步驟實驗結果 實驗目的晶 ......