search:rf 電漿原理相關網頁資料

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        文/張家豪,魏鴻文,翁政輝,柳克強 李安平,寇崇善 吳敏文,曾錦清,蔡文發,鄭國川 摘要 電漿科技已廣泛應用於科學研究及工業製程,成為現代科技的重要指標。本文將介紹國內在電漿源方面的研發,其中包括電感式電漿源,微波表面波電漿源 ...
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        電漿清潔 (蝕刻)原理 : 利用高頻的電源所產生的電漿,來帶動氣體離子轟擊基底材料,以達到表面清潔 (蝕刻)的效果。 其功能包含了: 1. 表面活化 2. 表面清潔 3. 微蝕刻化 4. 交錯連結 5. 化學改質 能有效改善被處理素材的表面濕潤性與表面能、增加附著 ...
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    日期:2024-07-18
    電漿的基礎原理 2 目標 • 列出至少三種用到電漿的半導體製程 • 列出電漿中的主要三種碰撞 • 說明平均自由路徑 • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程 • 列出兩 ......
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    日期:2024-07-18
    2006/6/14: 電漿與電弧原理 電漿與電弧原理 報告人 詹振能 葉姿青 林威豪 。 。 兩極距離 ......
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    日期:2024-07-18
    電漿原理 介紹 I. Principles of Plasma Generation + e-e-neutral atom ( Kinetic Energy ) gained = F.d = qξ.λ = q ( V/d e)λ λ: mean free path d e: electrode distance ξ: electric field V : electrode ......
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    日期:2024-07-16
    電漿原理 Author ui Last modified by ui Created Date 12/7/2012 1:03:00 AM Company ui ......
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    日期:2024-07-21
    不同結構對奈米碳管之功函數之影響:功函數之最基本定義為在金屬表面,由於表面電子電荷密度與表面帶 ......
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    日期:2024-07-16
    請問各位大大!! 1.PECVD 和 RIE電漿原理為何? 2.PECVD 和 PIE 的中文意思為何?例如p代表什麼等等…請各位大大救救我!!越詳細越好^^謝謝大大分享知識!...
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    日期:2024-07-21
    2. 目標. • 列出至少三種用到電漿的半導體製程. • 列出電漿中的主要三種碰撞. • 說明平均自由路徑. • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程. • 列出兩種高密度電漿源 ......
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    日期:2024-07-19
    電漿基礎原理. 2. 電漿的成分. • 電漿是由中性原子或分子、電子(-)和正電離. 子所構成 ... 非常活潑. • 增進化學反應速率. • 對蝕刻製程和CVD來說非常重要. 8. 電漿 蝕刻....