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![國立台北科技大學奈米光電磁材料技術研發中心]()
www.cc.ntut.edu.tw可適用於電機、機械、電子、光學、材料等研究領域。射頻磁控濺鍍機其基本原理 乃根據離子濺射原理，當高能粒子（通常是由電場加速的正離子）衝擊到固體表面，固體表面的原子和分子在與這些高能粒子交換動能後，就從固體 ...瀏覽：795 -
![Sputter.doc - 輔仁大學物理系]()
www.phy.fju.edu.tw作用原理. 圖二、電漿形成示意圖. 見圖二一個真空腔內，有一對平行電板分別接上 正負電。當真空腔內的一些自由電子被吸引 ...瀏覽：1205
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日期：2024-08-12
反應性射頻磁控濺鍍原理. 濺鍍（sputtering）製程是使用電漿（plasma）對靶材進行
離子轟擊（ion bombardment），將靶材表面的原子撞擊出來。這些原子以氣體分子 ......
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日期：2024-08-09
射頻磁控濺鍍機其基本原理乃根據離子濺射原理，當高能粒子（通常是由電場加速的 ... (1)真空系統: 腔體內徑為40 cm，高度為40 cm，基板的支撐座之直徑為76 mm； ......
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日期：2024-08-10
轟擊，此即直流濺鍍機(DC sputtering)的最基本原理。由上述的討論 ... 圖A.1 直流電
漿產生示意圖[16] ... 此一電位為RF 電漿獨有的DC 電位自我調降，稱為"自我偏壓....
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日期：2024-08-10
鍍膜原理 蒸鍍(Vacuum Evaporation) 濺鍍(Sputtering) 離子蒸鍍(Ion Plating) Cathode ... 金屬不導電真空電鍍的技術，它可以運用在所有需要表面處理的塑膠產品，此技術是由普通真空 ......
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日期：2024-08-06
2010年11月12日 - 射頻濺鍍系統(RF Sputter) .... 圖八所示為RF Controller面板，面板說明如下： ... Heat(OFF)、Heat(Hold)、Gas(N2、Ar)、Power(RF)、Vent(Main)、....
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日期：2024-08-07
RF sputter真空 原理 Author 小雪 Last modified by WEI Created Date 10/20/2010 12:58:00 AM Company ASDF ......
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圖七V 不 時，帶電粒子在磁場中的運動 2.2、 Sputter 濺鍍物理 原理： 磁控濺射的工作 原理如下圖所示；電子在電場E ......
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