search:rf sputter原理相關網頁資料

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日期:2024-08-07
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日期:2024-08-06
中央研究院應科中心 儀器設備管理規則及使用辦法 (經無塵室管理委員會會議通過,92 年 8 月 8 日正式實施。) 一. 儀器名稱 中文名稱 : 交流式濺鍍機 英文名稱 : ......
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日期:2024-08-11
November 14, 2012 Q. Hi, I am trying to figure out what is the " bias" indication I read on my RF source ......
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日期:2024-08-13
Abstract. The study of Al2O3 and SiO2 optical thin films prepared by RF magnetron sputtering system with IAD was concerned in this thesis. Due to IAD, we can....
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日期:2024-08-06
射頻磁控濺鍍機(RF magnetron Sputter)是一種薄膜製程的儀器,可適用於電機、 機械、電子、光學、材料等研究領域。射頻磁控濺鍍機其基本原理乃根據離子濺射 ......
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日期:2024-08-09
2006年3月24日 ... 4) 絕緣體的濺鍍. 絕緣薄膜可利用射頻濺鍍或反應濺鍍。若採用直流電濺鍍,將迅速 造成表面電荷堆積而無法濺鍍。 i) 射頻電濺鍍(RF Sputtering)....
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日期:2024-08-09
磁控濺鍍機. (Magnetron Sputter). S O P ... SOP sputter (Old). 郭鎧瑋2006/06/26. 二、 原理. 1、 超低溫幫浦及系統介紹. 超低溫幫 .... 提供DC、RF 電源. Huttinger. 4....
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日期:2024-08-11
Sputter 磁控溅镀原理. Sputter 在辞典中意思为:(植物)溅散。此之所谓溅镀乃指物体 以离子撞击时,被溅射飞. 散出。因被溅射飞散的物体附著于目标基板上而制成 ......