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日期:2024-08-21
基於SUSS 光罩對準曝光機的基板完整壓印微影技術及其應用前景 ... 波長範圍內的精度要求,電子束微影的精度足夠,但是另一方面它的掃描曝光原理的產能又太低。 ..... 應用於22nm間隙壁自對準雙圖案製程之DUV檢視和缺陷成因分析 (2012/8/17)....
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日期:2024-08-22
曝光 晶圓上光阻劑的曝光為製造晶片結構的重要步驟之一。通常使用兩種製程:近接式及投影式微影。近接式微影為一比一的近接或接觸式陰影投射:先將需轉印圖像的光罩對準並置於非常接近晶圓的位置( 即「近接式微影 - "Proximity Lithography"」),曝光 ......
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日期:2024-08-27
集团信息 SUSS MicroTec在工程領域擁有超過60年的豐富經驗,為半導體產業及相關市場之微架構製程設備的領導供應商。我們的服務為提供最全方位的半導體設備組合及解決方案,包括後段微影、晶圓接合與前段的光罩製程設備並提供各式微光學元件。...
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日期:2024-08-25
半導體科技是唯一獲美國 Solid State Technology 及 Advanced Packaging 領域授權華文同步編輯之媒體。是一本以華文發行亞洲固態技術與封裝測試領域之專業技術情報雜誌,已獲 ......
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日期:2024-08-24
儀器中文名稱:低壓化學氣相沉積系統 儀器廠牌及型號:SSC / LP64H A54249 設備規格: Systems:low pressure (X3) and high,temp.oxidation (X1) furnace tubes for 4” wafe(50 wafers) High temp. oxidation furnace tube: Wet oxidation thickness:100~5000 Å...
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日期:2024-08-24
SUSS MicroTec光罩對準曝光機已成為優質效能、精確對準及精密曝光光學的代名詞。SUSS MicroTec提供的完整光罩對準曝光機系列,可供自動化、大量生產的高階 ......
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日期:2024-08-25
SUSS MicroTec 的投影式掃描技術結合了全晶圓對準曝光技術及傳統投影技術的優點於一身,成為光罩對準曝光機和傳統步進式曝光機以外的另一選擇。投影式掃描 ......
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日期:2024-08-20
投影式掃描曝光機DSC300 Gen2. 投影鏡頭. 卓越的光學設計. 投影鏡頭的光學和機械設計使其不僅可應用於穿透厚膜和薄膜光阻,亦可使用於不同高低差的載具。...