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  2024-08-25
  
  瀏覽：433
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  半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 基於SUSS 光罩對準曝光機的基板完整壓印微影技術及其應用前景 - Semicondutor ...
  
  3>近年來，半導體照明技術在全球引起了廣泛關注。相關的產業也開始蓬勃發展。預計到2010年，全球發光二極體（LED）產業市場總值將達到90億美金 8pt>1 。然而，目前由於發光效率的限制，LED的應用還被侷限在諸如手機，掌上電腦，筆記型電腦或者汽車 ...
  
  2024-08-20
  
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半導體科技.先進封裝與測試雜誌- 基於SUSS 光罩對準曝光機 ...

日期：2024-08-21

基於SUSS 光罩對準曝光機的基板完整壓印微影技術及其應用前景 ... 波長範圍內的精度要求，電子束微影的精度足夠，但是另一方面它的掃描曝光原理的產能又太低。 ..... 應用於22nm間隙壁自對準雙圖案製程之DUV檢視和缺陷成因分析 (2012/8/17)....

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曝光 - SUSS MicroTec

日期：2024-08-22

曝光晶圓上光阻劑的曝光為製造晶片結構的重要步驟之一。通常使用兩種製程：近接式及投影式微影。近接式微影為一比一的近接或接觸式陰影投射：先將需轉印圖像的光罩對準並置於非常接近晶圓的位置( 即「近接式微影 - "Proximity Lithography"」)，曝光 ......

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SUSS MicroTec - SUSS MicroTec

日期：2024-08-27

集团信息 SUSS MicroTec在工程領域擁有超過60年的豐富經驗，為半導體產業及相關市場之微架構製程設備的領導供應商。我們的服務為提供最全方位的半導體設備組合及解決方案，包括後段微影、晶圓接合與前段的光罩製程設備並提供各式微光學元件。...

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半導體科技.先進封裝與測試雜誌-半導體資訊|半導體新聞|半導體方案|半導體評測|半導體信息|封裝技術|半導體 ...

日期：2024-08-25

半導體科技是唯一獲美國 Solid State Technology 及 Advanced Packaging 領域授權華文同步編輯之媒體。是一本以華文發行亞洲固態技術與封裝測試領域之專業技術情報雜誌，已獲 ......

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儀器中文名稱：低壓化學氣相沉積系統儀器廠牌及型號：SSC / LP64H A54249 設備規格： Systems：low pressure (X3) and high,temp.oxidation (X1) furnace tubes for 4” wafe(50 wafers） High temp. oxidation furnace tube： Wet oxidation thickness：100~5000 Å...

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