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![投影光刻儀 - SUSS MicroTec]()
www.suss.comSUSS MicroTec 公司的光罩對準組合，以其高對準精度和精密的曝光技術，輔以獨創的投影光刻解決方案：DSC 光刻儀平台結合了全場光刻與投影光刻成像性能的 ...瀏覽：478 -
![MA300 Gen2 - Overview - SUSS MicroTec]()
www.suss.com... 曝光的幾何範圍為5到100微米的技術上。MA300代表了SUSS所生產的新一世代光罩對準曝光機，其設計時即是要滿足具有大量量產製造環境的高階晶圓廠的需求。瀏覽：835
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投影式掃描曝光機DSC300 Gen2. DSC300 Gen3 使用最先進的投影光刻技術，處理尺寸300 毫米以內的晶圓。此設備可滿足晶圓級封裝、3D 整合應用以及晶圓凸塊 ......
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日期：2024-10-01
除了底部對準能讓SUSS的300mm光罩對準曝光機能夠處理雙面結構晶圓之外，紅外線對準選配則能夠處理不透明，但紅外線可穿透的材料，例如各類黏著劑，特別是 ......
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日期：2024-09-29
中文名稱. 光罩對準曝光機. 英文名稱. Mask Aligner. 儀器廠牌型號. 德國Karl-Suss MJB-3. 購置年限. 甲台: 1988年3月. 乙台: 1991年1月. 放置地點. 固態電子系統 ......
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日期：2024-09-27
光罩對準曝光機(Mask Aligner 德國Karl-Suss)操作程序. 1、在使用登記表登錄使用人及開機時間。 2、打開右邊鐵架上之汞燈電源(須熱機20 分鐘以上，光源才會穩定) ......
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