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中研院奈米核心設施光罩製作畫圖規則
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日期：2024-08-11
1 中研院奈米核心設施光罩製作畫圖規則 AutoCAD適用(2014.04 version) 原作者: 巫英賓 (2007.10 1st version) 增修：李固斌(kupin@phys.sinica.edu.tw) (本中心保留隨時修改本文件之權利) 前言 雷射曝光機是以雷射為光源去曝光光罩底片，藉以製作光罩。...看更多
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