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半導體乾式蝕刻製程內容與目的為何? - Yahoo!奇摩知識+
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日期：2024-07-07
半導體乾式蝕刻製程內容與目的為何?1.是要怎樣去進行這一道製程?2.原理或是運用方法?3.其目的為何?4.或是需要注意的地方!! ... 9-3 乾蝕刻(Dry Etching) 乾蝕刻通常是一種電漿蝕刻(Plasma Etching)，由於蝕刻作用的不同，電漿中離子的物理性轟擊 ......看更多
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