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應用邏輯演算法在大尺寸光罩的選擇性線寬補償
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日期:2024-07-10
50 科學與工程技術期刊 第九卷 第二期 民國一 二年 除依照設計而在表面形成的Cr/CrO2 層。濕蝕刻化學蝕刻 ± 和乾蝕刻電漿或離子蝕刻,也就是物理蝕刻都是現今光 罩製程常用的方式,當精細度要求較高時,較常選擇乾蝕刻...看更多