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台灣積體電路製造股份有限公司
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日期：2024-07-26
晶圓廠主要用水流程係純水設備將自來水製造成超純水，用於製程機台清洗晶圓表面所殘存之化學品。為了減少總用水量，台積公司純水設備及製程機台的排放水依照其乾淨程度分級，最乾淨者優先循環純化回製程使用；次之者經水回收設備處理後使用為 ......看更多
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