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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 中科院化學機械研磨漿技術綜覽 - Semicondutor Magazine
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日期：2024-07-28
化學機械研磨(Chemical Mechanical Polishing，簡稱CMP)製程憑著其全面平坦化之優勢而成為半導體製程中不可或缺的一環，由於在研磨過程中研磨漿消耗量非常之大，成為CMP製程中最主要之耗材。Laredo Associates機構曾於2000年針對CMP研磨漿全球市場作 ......看更多
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