感應耦合電漿離子蝕刻技術(II) Inductively Coupled Plasma Reactive ...

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日期:2024-08-08
2005年12月21日 ... 感應耦合電漿離子蝕刻系統包含非等向性蝕刻、保護製程及等向性蝕刻,Dry SCREAM 製程技術利用上述特性,只需一道黃光製程及接續的ICP 製程 ......看更多