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雙重曝光技術護航 ArF浸潤式微影穩居主流 - 懂市場 - 新電子科技雜誌
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日期：2024-10-10
這套系統是可同時支援單次曝光與雙重曝光的下一代浸潤式設備，將透過晶圓平台 ... 至於在疊對誤差方面，雙重曝光技術對曝光機台最大的挑戰，即在於疊對的精確度；因為在45奈米以下製程，光罩層數大增，不僅每層曝光要精確，當層層疊 ......看更多
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