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日期:2024-07-11
乾式蝕刻簡介 所謂的乾蝕刻 ,主要是利用電漿 (Plasma),而非濕式的溶液來對薄膜進行侵蝕的一種技術,因為蝕刻反應不涉及溶液,所以稱之為乾式蝕刻。其主要優點是蝕刻為非等向性,亦即垂直方向的速率遠大於橫向的速率 ......看更多