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化學氣相沉積 - 維基百科,自由的百科全書
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日期:2024-08-15
化學氣相沉積(英語:Chemical Vapor Deposition,簡稱CVD)是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將晶圓(基底)暴露在一種或多種不同的前驅物下,在基底表面發生化學反應或/及化學分解 ......看更多