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真空PVD濺鍍原理 - 厚昌真空科技有限公司濺鍍 PVD離子鍍膜

真空PVD濺鍍原理 - 厚昌真空科技有限公司濺鍍 PVD離子鍍膜

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日期：2024-10-31
PVD鍍膜（離子鍍膜）技術，其具體原理是在真空 條件下，採用低氣壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸鍍並使被蒸物與氣體都產生電離，利用電子的加速作用，使被蒸鍍物及其反物沉積在工件上 ......看更多

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