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奈米結構原子級薄膜製程技術—原子層沉積 (Atomic Layer Deposition, ALD) 系統研發成功
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日期：2024-09-04
儀科中心約三十年前即投入真空技術研究發展，由真空元件製造著手，將技術移轉予業界生產銷售，並首先將真空極限推至 10 −10 Torr 超高真空領域，成為國內真空技術的研究重鎮。目前研究重點為太空級規格光學薄膜元件與奈米薄膜材料之製程與設備 ......看更多
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