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電漿處理的鉭擴散阻障層在銅製程的應用 - 國家奈米元件實驗室
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日期:2024-08-25
本研究主要探討氮氣電漿處理的鉭( Ta ). 擴散阻障層薄膜在銅製程上的熱穩定性,其
. 中分別以片電阻的變化、 X光的繞射分析、. 穿透式電子顯微鏡的觀察以及n+- p接 ......看更多