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電漿反應器與原理

電漿反應器與原理

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日期：2024-07-16
本文先對電漿現象及原理作概述，再針對電漿應用. 到蝕刻、濺鍍及輔助 ... 異，而一般用在PECVD 鍍膜的電漿源其解離率小於1%，近幾年由於對鍍膜要. 求的嚴苛， 如 ......看更多

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