投影片 1 - 中州科技大學Chung Chou University of Science and Technology

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日期:2024-09-26
清洗技術 半導體元件的製造上,清洗的目的是為了去除基板表面的各種污染。 製造製程中,污染的發生可分為兩種,一在晶圓的處理過程 ( 搬運及保管 ) 中發生,另一則在製程過程中發生。 如表歸納製程的種類,污染的種類,以及要以何種清洗去除 ......看更多