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化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition)
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日期：2024-07-12
CVD 原理. ◇反應氣體從反應器的主氣流裏，藉著反應氣體在主氣流及晶片. 表面間的濃度差，以擴散的 .... ◇PECVD利用電漿來幫助化學沉積反應的進行，並降低反應. 發生所需的製程溫度，以 ......看更多
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